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影響鈰基拋光材料光學(xué)拋光的因素
來源：www.cdtclq.com | 發(fā)布時間：2022年08月08日在鈰基拋光材料光學(xué)拋光處理中，選擇合理的運動模式和拋光路徑是重要的一步，拋光運動主要是實現(xiàn)磨削運動，因此運動狀態(tài)將直接影響拋光過程的精度和生產(chǎn)效率，因此，在平面拋光機拋光過程中，鈰基拋光材料拋光運動應(yīng)滿足以下幾點：
1.加工工件時，整個拋光運動要從頭到尾平穩(wěn)。
2.拋光運動的目的是保障工件能夠均勻地接觸到拋光輪的整個表面。
3.所選的拋光運動應(yīng)使軌跡有規(guī)律地改變方向，盡早避免重復(fù)。
4.在拋光運動過程中，拋光運動還應(yīng)根據(jù)不同的拋光工藝需要選擇理想的運動拋光速度。
5.在拋光運動過程中，磨具和工件應(yīng)處于懸浮狀態(tài)，而不是受限制。
6.拋光運動應(yīng)保障工件拋光均勻，即工件表面各點之間的距離應(yīng)盡可能相等。
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