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磨料在cmp作用在拋光液中

來(lái)源:www.cdtclq.com  |  發(fā)布時(shí)間:2022年11月29日
  拋光劑是cmp拋光液的主要成分。在拋光過(guò)程中,它通過(guò)微切割.微刮擦.工件表面采用滾壓等功能,實(shí)現(xiàn)機(jī)械去除材料的功能。

  上海鈰基拋光液供應(yīng)商根據(jù)磨料成分,拋光液一般分為單磨料拋光液.混合磨料拋光液和復(fù)合磨料拋光液研磨劑在cmp拋光過(guò)程中的功能是:

  1.機(jī)械動(dòng)作的實(shí)施者起到機(jī)械研磨的作用;

  2.材料傳輸?shù)墓δ懿粌H是在拋光墊和拋光材料之間傳輸新鮮的漿料,還可以去除材料表面的反應(yīng)物,泄漏材料的新表面,進(jìn)一步減少反應(yīng)。


上海鈰基拋光液


  因此,在選擇上cmp拋光液時(shí),記得要考慮良好的分散性.流動(dòng)性好.拋光液產(chǎn)品硬度適中,易于清洗。

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