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廣州CMP中鈰基拋光粉的制備及應(yīng)用。
來源：www.cdtclq.com | 發(fā)布時(shí)間：2022年06月08日由于對高精度光學(xué)透鏡和集成電路化學(xué)機(jī)械拋光的嚴(yán)格要求，越來越多的人關(guān)注鈰基拋光粉的制備和應(yīng)用。為了提高其拋光性能和方法的經(jīng)濟(jì)可行性，采用合適的方法制備了鈰基拋光粉。以大顆粒水合丙酸鈰結(jié)晶為前體，通過簡單的煅燒合成納米級氧化鈰。研究了煅燒溫度對合成產(chǎn)物的物理性能的影響。
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