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鈰基拋光材料的拋光要求有哪些？
來源：www.cdtclq.com | 發(fā)布時間：2022年06月28日鈰基拋光材料的基本要求：
鈰基拋光材料微粉粒度均勻，在允許的范圍內(nèi)；顆粒的大小和均勻性決定了拋光速度和精度，篩網(wǎng)可以掌握粉末的相對粒度值，平均粒度決定了拋光粉末粒度的整體水平。
鈰基拋光材料純度高，無機械雜質(zhì)；
為保障鈰基拋光材料加工過程的均勻性和效率，具有突出的分散性和吸附性，可適量添加LBD-1.分散劑提高懸浮率；好的拋光粉應(yīng)具有良好的懸浮性能。粉末的形狀和粒度對懸浮性能有影響。納米粒徑拋光粉的懸浮性能相對較好，拋光粉一般選用要求較高的拋光粉。
鈰基拋光材料粉末顆粒具有晶格形狀，破碎時形成尖銳的尖角，提高拋光效率；粉末的晶體形狀是單晶顆粒聚集在一起，決定了粉末的切割、耐磨性和流動性。粉末聚集在一起的單晶顆粒在拋光過程中分離（破碎），使其切割和耐磨性逐漸降低。球形拋光粉具有切割性、耐磨性和流動性。
鈰基拋光材料具有適當(dāng)?shù)挠捕群兔芏?，水具有良好的滲透性和懸浮性。由于拋光粉需要與水混合，硬度較大的粉末具有快速切割效果，添加一些助磨劑也可以改善切割效果；不同的應(yīng)用領(lǐng)域?qū)⒂泻艽蟮氖罩Вㄗ约旱募庸ぜ夹g(shù)。
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